TY  - JOUR
AU  - Wei Li
AU  - Kurt Pernstich
AU  - Angela Hight
AU  - Tian Shen
AU  - Guangjun Cheng
AU  - Christina Hacker
AU  - Curt Richter
AU  - Qiliang Li
AU  - David Gundlach
AU  - Xuelei Liang
AU  - Lianmao Peng
AU  - Yiran Liang
C2  - Applied Physics Letters
DA  - 2013-05-08
LA  - en
PB  - Applied Physics Letters
PY  - 2013
TI  - UV/Ozone treatment to reduce metal-graphene contact resistance
UR  - https://tsapps.nist.gov/publication/get_pdf.cfm?pub_id=912639
ER  -