TY - JOUR AU - D Goldfarb AU - Eric Lin AU - Christopher Soles AU - B Trinque AU - S Burns AU - Ronald Jones AU - Joseph~undefined~undefined~undefined~undefined~undefined Lenhart AU - M Angelopoulos AU - C Wilson AU - Sushil Satija AU - Wen-Li Wu C2 - Microlithography World DA - 2021-10-12 15:10:19 LA - en PB - Microlithography World PY - 2021 TI - Chemically Amplified Photoresists Fundamental Properties and Limits of Applicability to Sub-100 nm Lithography ER -