TY  - JOUR
AU  - D Goldfarb
AU  - S Burns
AU  - M Angelopolous
AU  - S Skordas
AU  - R Burns
AU  - M Lawson
AU  - C Brodsky
AU  - V Vishnu
AU  - E Jablonski
AU  - Vivek Prabhu
AU  - Ronald Jones
AU  - B Vogt
AU  - Christopher Soles
AU  - Eric Lin
AU  - Wen-Li Wu
C2  - Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems
DA  - 2021-10-12 15:10:19
LA  - en
PB  - Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems
PY  - 2021
TI  - Additive-Containing Rinses for LER and Defectivity Control During High-Resolution Resist Patterning
ER  -