TY - GEN AU - Krishna Coimbatore Balram AU - Daron Westly AU - Marcelo Davanco AU - Karen Grutter AU - Qing Li AU - Thomas Michels AU - Christopher Ray AU - Richard Kasica AU - Christopher Wallin AU - Ian Gilbert AU - Brian Bryce AU - Gregory Simelgor AU - Juraj Topolancik AU - Nicolae Lobontiu AU - Yuxiang Liu AU - Pavel Neuzil AU - Vojtech Svatos AU - Kristen Dill AU - Neal Bertrand AU - Meredith Metzler AU - Gerald Lopez AU - David Czaplewski AU - Leonidas Ocola AU - Kartik Srinivasan AU - Samuel Stavis AU - Vladimir Aksyuk AU - James Liddle AU - Slava Krylov AU - Robert Ilic C2 - Journal of Research (NIST JRES), National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD DA - 2016-10-19 00:10:00 DO - https://doi.org/10.6028/jres.121.024 LA - en M1 - 121 PB - Journal of Research (NIST JRES), National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD PY - 2016 TI - The Nanolithography Toolbox UR - https://tsapps.nist.gov/publication/get_pdf.cfm?pub_id=921714 ER -