TY  - JOUR
AU  - B Budhlall
AU  - G Parris
AU  - P Zhang
AU  - X Gao
AU  - Z Zarkov
AU  - B Ross
AU  - Simon Kaplan
AU  - J Burnett
C2  - SPIE
DA  - 2005-01-01 00:01:00
LA  - en
M1  - 5754
PB  - SPIE
PY  - 2005
TI  - High refractive index immersion fluids for 193 nm immersion lithography
ER  -