TY  - JOUR
AU  - J Burnett
AU  - Simon Kaplan
AU  - Eric Shirley
AU  - P Tompkins
AU  - J Webb
C2  - SPIE
DA  - 2005-01-01 00:01:00
LA  - en
M1  - 5754
PB  - SPIE
PY  - 2005
TI  - High-index materials for 193 nm immersion lithography
ER  -