TY - VIDEO
AU - A Nicoletti
AU - P Srinivasan
AU - M Riva
AU - Eric Benck
AU - A Goyette
AU - Ying-Ju Wang
AU - J Kim
AU - P Hsieh
AU - A Athayde
AU - Abhay Joshi
C2 - International Symp Plasma Chemistry
DA - 2003-01-01 00:01:00
LA - en
PB - International Symp Plasma Chemistry
PY - 2003
TI - C4F6 - 1,3 Hexafluorobutadiene - A New Etching Gas: Studies on Material Compatibility, Behavior in an Inductively Coupled Plasma and Etch Process Performance
ER -