TY - VIDEO AU - A Nicoletti AU - P Srinivasan AU - M Riva AU - Eric Benck AU - A Goyette AU - Ying-Ju Wang AU - J Kim AU - P Hsieh AU - A Athayde AU - Abhay Joshi C2 - International Symp Plasma Chemistry DA - 2003-01-01 00:01:00 LA - en PB - International Symp Plasma Chemistry PY - 2003 TI - C4F6 - 1,3 Hexafluorobutadiene - A New Etching Gas: Studies on Material Compatibility, Behavior in an Inductively Coupled Plasma and Etch Process Performance ER -