TY - JOUR AU - J Liddle AU - M Blakey AU - T Saunders AU - R Farrow AU - L Fetter AU - C Kneurek AU - R Kasica AU - et al AU - M Peabody AU - Shannon Takach AU - D Windt AU - Michael Postek C2 - Journal of Vacuum Science and Technology B DA - 1997-11-01 LA - en M1 - 15(6) PB - Journal of Vacuum Science and Technology B PY - 1997 TI - Metrology of Scattering with Angular Limitation Projection Electron Lithography Masks ER -