TY  - JOUR
AU  - Simon Kaplan
AU  - J Burnett
AU  - Eric Shirley
AU  - D Horowitz
AU  - W Clauss
AU  - A Grenville
AU  - C Van
C2  - SPIE
DA  - 2006-01-01
LA  - en
M1  - 6154
PB  - SPIE
PY  - 2006
TI  - High index optical materials for 193 nm immersion lithography
ER  -