TY - GEN AU - Ilic, Robert R. AU - Balram, Krishna Coimbatore AU - Westly, Daron A. AU - Davanco, Marcelo I. AU - Grutter, Karen E. AU - Li, Qing AU - Michels, Thomas AU - Ray, Christopher H. AU - Yu, Liya AU - Bertrand, Neal A. AU - Stavis, Samuel M. AU - Aksyuk, Vladimir A. AU - Liddle, James Alexander A. AU - Bryce, Brian A. AU - Lobontiu, Nicolae AU - Liu, Yuxiang AU - Metzler, Meredith AU - Lopez, Gerald AU - Czaplewski, David AU - Ocola, Leonidas AU - Neuzil, Pavel AU - Svatos, Vojtech AU - Krylov, Slava AU - Wallin, Christopher B. AU - Gilbert, Ian J. AU - Dill, Kristen A. AU - Kasica, Richard J. AU - Srinivasan, Kartik A. AU - Simelgor, Gregory AU - Topolancik, Juraj C2 - , National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD DA - 2016-10-01 04:10:00 DO - https://doi.org/10.6028/NIST.HB.160 LA - en PB - , National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD PY - 2016 TI - Nanolithography Toolbox: ER -