TY  - JOUR
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C2  - IEEE Transactions on Electron Devices
DA  - 2003-01-01 00:01:00
LA  - en
PB  - IEEE Transactions on Electron Devices
PY  - 2003
TI  - Diffusion Barrier Cladding in Si/SiGe Resonant Interband Tunneling Diodes and Their Patterned Growth on PMOS Source/Drain Regions
ER  -